作者:安开 来源:原创 时间:2026-05-23 阅读:41377 次

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艺验证工作。     当前,人工智能、高性能计算等领域快速发展,有力带动先进制程、先进封装及芯片堆叠等需求持续提升。CMP作为实现纳米级表面平整度控制的核心工艺,在先进逻辑、先进存储及先进封装等领域的应用场景与工艺需求不断拓展。目前,公司CMP装备主力机型及新一代产品可全面适配集成电路、功率半导体、三维集成与先进封装、化合物半导体、新型显示、衬底材料等主流应

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发布时间:03:06:45